掩模對準曝光機是指通過開啟燈光發(fā)出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質(zhì)的表面上的機器設備。該儀器可廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領。

 

　　技術數(shù)據(jù)：

　　掩模對準曝光機以其多功能性和可靠性而著稱，在小的占位面積上結合了先進的對準功能和優(yōu)化的總體擁有成本，提供了先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產(chǎn)要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務和支持，使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。

　　該儀器或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能，可在各種應用中實現(xiàn)出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外，半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

　　產(chǎn)品特點：

　　1、高清彩色雙顯示屏；

　　2、設備穩(wěn)定性，耐用性超高；

　　3、操控手柄調(diào)控模式的*設計；

　　4、抗衍射反射的高效光學光路設計；

　　5、可選支持單面對準和雙面對準設計；

　　6、帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器；

　　7、采用LED穿透物鏡照明技術，具有*對準亮度；

　　8、采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構；

　　9、具有自動執(zhí)行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；

　　10、操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；

　　11、全新氣動軸承導軌設計，高jīng準，低磨損，無需售后維護的；

　　12、高清晰彩色雙CCD鏡頭采用的分裂視場顯微鏡鏡頭；雙頭高清全彩物鏡。