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Product Category研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。$nEVG101光刻膠勻膠機(jī)在單室設(shè)計(jì)上可以滿足研發(fā)工作,與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圓,可配置為旋涂或噴涂和顯影。
EVG單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)EVG610(單面/雙面掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī) 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對(duì)準(zhǔn)方式。此外,該系統(tǒng)還提供其他功能,包括鍵合對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉(zhuǎn)換時(shí)間不到幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念適合初學(xué)者到專家級(jí)各個(gè)階層用戶,非常適合大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用。